일본의 수출 규제로 소재 기술 자립화 필요성이 높아지는 가운데, 정부출연연구소의 기술지원을 받은 국내 중소기업이 반도체 공정장비 코팅소재 국산화에 성공했다.

이에 따라 전량 일본에서 수입해 사용하던 코팅 소재를 국산품으로 대체하는 것이 가능해졌다.

핵융합연구소와 세원하드페이싱은 미세 분말 상태에서도 응집하지 않는 용사코팅 소재인 이트륨옥사이드를 국내 최초로 개발하는 데 성공했다. 특히 25마이크로미터 이하 크기의 용사분말 유동성을 크게 향상 시킬 수 있어, 그동안 불가능했던 미세 분말을 이용한 고품질의 용사코팅이 가능해질 전망이다.

이번에 개발된 제품(20 마이크로미터)은 일본에서 수입해 사용했던 제품(35마이크로미터)보다 입자 사이즈가 작으면서도 유동도가 매우 높아 미세하고 치밀한 코팅막을 형성할 수 있다.

------ 일본 제품보다 더 좋다고 하는군요 암튼 하나 하나 국산화가 진행되고 있군요