네... 하지만 공정을 새로 개발한다는게 저도 자세히는 모르지만 엄청 어렵다고 하네요.
예를 들어 감광액을 맞는 걸 쓴다고 다 해결되는게 아니고, 노광시키고 세척했는데 패턴이 붕괴된다던가(불량) 하는 경우를 없애기 위해서 단순히 감광액만 쓰는게 아니고, 온갖 종류의 린스나 계면활성제 같은 것들을 정립된 순서와 용량, 온도 등의 조건을 다 맞춰서 조성해 줘야 할 텐데... 경우의 수가 워낙 많으니, 공정엔지니어들이 거의 노가다를 통해서 시행착오를 통해서 공정 조건을 잡아나가는 건데 말이죠.
공정엔지니어들은 거의 피가 마르는 작업이라고 하더군요.
일정은 쫒기고, 조건은 한 번 만에 안 잡히고... 답이 있는지 없는지도 모르는 미지의 영역이라..
보통 레티스터로 줄여서 부르는데 정확한 명칭은 포토 레지스터로 한글또는 한문씩 표현으로
감광제라고 불립니다
이게 머냐면 빛에 반응해서 분자가 분해되거나 결합되거나(방시에 따라 포지티브 네거티브식으로 나뉨)
해서 비반응 구획을 만드는데 쓰입니다.
간략해서 말하면 반도체 청사진 그리는데 쓰인느 겁니다.
반도체 공정에서 청사진 그리는 공정에 가장 중요한 것 두개가 노광시킬 때 쓰이는 노광기와
pr입니다. 미세공정을 하려면 빛의 파장이 작을수록 유리하고 따라서 euv와같은 방법이 생기는 거죠
그럼 euv와 같은 빛을 쓰게 되면 당연히 pr의 해상도도 적어저야 합니다. pr은 고분자 물질로 만들어
해상도를 좋게 하는거죠.
그럼 여기서 일본만 euv용 pr을 생산할 수 있느냐? 그건 아니죠. 당연히 여러 군데가 있겠죠.
근데 여기서 따져 봐야 할건 지금 당장 pr이 공급 가능하냐 하면 그건 아닙니다.
생산량이란게 있으니까요. 일본외 업체들은 그내들 사정에 맞는 생산량만 생산하는건 당연한거죠.
갑자기 필요하다 해서 생산량을 늘릴 수 있는 건 아닙니다.
그리고 위엣분 이 말씀하신 거와 같이 공정자체에도 변수가 있을 수가 있습니다.
똑같은 euv용 pr이라 해도 같은 결과물을 얻을 수 있다는 보장이 없으니까요.
흔히들 반도체공장 건설한다 하면 건물 짓고 기계만 들여 오는 걸로 생각하는데
그런건 얼마 안걸려요.. 대단히 복잡한 건물도 아니고. ....
공정 조건 잡고 최적화 시키는데 엄청난 시간이 들어가는 겁니다..
작성일 : 19-07-11 11:58
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