세정장비는 반도체 기판을 극도로 깨끗하게 세팅해주는 설비다. 통상 현대 반도체 산업은 머리카락 굵기 10만분의 1에 해당하는 나노미터(nm) 단위로 공정이 이뤄진다. 때문에 눈에 보이지 않을 정도로 미세한 입자 수준의 먼지나 오염물만 묻어도 수율(양품 비율)에 치명적 영향을 끼친다. 세정장비는 이같은 부정 변수를 제거해 불량률을 최소화하는 핵심 장비라 할 수 있다.
과거에는 극도로 정제한 물인 '초순수'를 이용해 세정작업을 했지만 이 과정에서 물이 튀어 반도체 회로를 훼손시키는 경우가 종종 발생했다. 이에 대한 대안으로 초임계 이산화탄소를 이용한 세정장비가 고안됐다. 이 장비는 초임계 상태의 이산화탄소로 반도체 기판의 불순물을 제거해 회로에 미치는 영향을 최소화한다.
오늘날 초임계 세정장비는 삼성전자과 SK하이닉스의 10nm대 DRAM(램), 파운드리(반도체 위탁생산) 공정에 투입되는 핵심 설비로 손꼽힌다. 지난해 산업통상자원부는 초임계 세정장비의 설계를 국가 핵심기술로 지정했으며 관련 법령에 따라 국가적 차원에서 보호하고 관리 중이다.
https://n.news.naver.com/mnews/article/015/0004700091?sid=105
앞으로는 국가지정 핵심기술과 관련해서는 관련된 업체의 임직원, 연구원, 관련 직원들에 대한 신상정보DB를 갖춰서 국정원이나 유출방지관련 감시관리팀을 신설 운영해서 퇴직후까지 철저히 사찰을 하도록 해야한다고 생각되네요.
그렇지않으면 절대 막을수 없을듯합니다.
작성일 : 22-05-18 06:14
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