https://www.sedaily.com/NewsView/1VLS4QDWVT/GD05 [서울경제 ]
한국과학기술연구원(KIST)은 손정곤 광전하이브리드연구센터 책임연구원팀이 플라즈마로 여러 가지 고분자물질에 적용할 수 있는 나노 패턴제작기술을 개발했다고 21일 밝혔다.
그동안 반도체 등을 제조할 때엔 극자외선 등을 활용해 실리콘 기판 위에 회로의 패턴을 찍어내는 방식을 활용해왔으나 공정이 매우 복잡하다는 단점을 안고 있었다.
비용도 상대적으로 많이 드는 방식이었다.