불산 시약 500 g 한병에 겨우 10 pg 의 불순물이 있다면, 무려 99.999999999998% 의 순도입니다.
무려 14n 에 해당하죠.
아무래도 시약 1 g 당 10 pg 의 불순물이 있다는 소리일거 같은데 그렇다면 11n 이죠.
시약을 파는데 순도를 병당 불순물 얼마 있다는 식으로 표기하진 않죠.
위 글을 썼다는 양반이 제시한 불산 시약 500 g 에 불순물 10 pg 이라면
14n 이나 되는 엄청난 순도이고, 그 양반이 잘못 옮겨적은 것이라는 제 추측이 맞다 쳐도 11n 이나 됩니다.
"Stella Chemifa has developed and secured its refining technology on its own and has succeeded in achieving high purity refining of over 12N(99.9999999999%). "
수소, 헬륨 포함해서 5N, 6N 이구요.
수소, 헬륨을 예외로 하고 측정하면 9N, 12N 스펙의 순도라고 주장하는거죠.
어디까지나 측정 기준이 수소/헬륨이 포함되느냐 포함되지 않느냐를 따지는겁니다.
중화학 분야에선 수소/헬륨을 포함하고, 반도체 식각 분야에서는 수소/헬륨은 식각에 영향을 주지 않으니 예외로 두는겁니다.
문제는 전세계 어느 기업이나 보편적인 정제 기술로 수소/헬륨 포함 5N, 6N 정제 가능합니다.
비싸죠. 그래서 안 써요. 쓸만한 분야도 몇 안되구요.
ArF 식각에서는 4N 정도면 충분하구요.
EUV에서는 5N 이상의 불산을 요구하는데, 아직 EUV 공정이 제대로 정착된게 아닙니다.
극복 못한 소재도 있고, 양산 대응에 문제도 있구요.
상업 생산은 삼성반도체에서 오직 1개의 라인만을 돌리고 있고.
그나마 EUV가 도입되는 TSMC는 3~4개의 핵심적인 마스크패턴에만 EUV가 제한적으로 적용될 뿐입니다.
삼성전자는 7~8개의 마스크패턴에 EUV가 도입되고, 이걸 3~4개로 줄인게 하프노드 공정인 6nm (인텔에서 요구한 공정) 입니다.
초고순도 불산이 많이 쓰이지 않는겁니다.
해당 캐파를 선점한게 일본 기업들이에요.
EUV 공정을 위한 불산 샘플 제공도 일본 기업들이 먼저 해 왔으니 공정 세팅이 모두 일본 기업에 맞춰져 있습니다.
다우케미컬이나 3M 같은 회사들이 생산을 못하는게 아닙니다.
국내기업들도 4N까지는 생산하고 있고, 필요에 따라서는 5N, 6N도 생산할 수 있겠지만.
보편적으로 사용되는 ArF가 아닌 극소수의 EUV를 위해서 생산할 기업들이 없다는거죠.
이 틈새 시장을 일본 기업들이 선점한거에요.
원래 EUV 장비 개발은 일본 기업들 연합과 ASML의 기싸움이였습니다.
주변 소재는 일본에서 주도적으로 개발해 왔으나 광학장치는 ASML의 승리로 끝났죠.
기존 반도체 소재 공급처들이 생산을 못해서가 아니라 일본 기업들이 EUV 소재 산업을 선점하고, 삼성/TSMC 같은 회사들의 공정 세팅에 일본기업 소재들이 레퍼런스로 들어가다보니 선점 효과에 실패한거지 기술력 문제로 제조 안하는게 아닙니다.