계산해보세요.

불산 시약 500 g 한병에 겨우 10 pg 의 불순물이 있다면, 무려 99.999999999998% 의 순도입니다.
무려 14n 에 해당하죠.
아무래도 시약 1 g 당 10 pg 의 불순물이 있다는 소리일거 같은데 그렇다면 11n 이죠.
시약을 파는데 순도를 병당 불순물 얼마 있다는 식으로 표기하진 않죠.

위 글을 썼다는 양반이 제시한 불산 시약 500 g 에 불순물 10 pg 이라면
14n 이나 되는 엄청난 순도이고, 그 양반이 잘못 옮겨적은 것이라는 제 추측이 맞다 쳐도 11n 이나 됩니다.

산수도 못 하는 양반의 글을 믿겠습니까 ?

시약의 경우 원래 넣으라고 되어 있는 성분과 순수한 물등 용제 이외의 것은 모두 불순물로 취급하죠.
그러니까 원래 원한 것이 아닌 수소, 헬륨 같은 기체가 극소량 들어가 있는 것도 불순물에 포함시킴.

하지만 반도체 쪽에서 말하는 것은 금속 또는 고형 불순물 함량입니다. 에칭이나 세정 이후에 남는 잔여물이 문제이니까요.
수소나 헬륨 극소량 들어간다쳐도 불순물로 치지 않음. 그래서 시약에서 말하는 순도와는 조금 기준이 다르다 할 수 있겠죠.

옮겨오신 글쓴이가 제시하는 시약을 봐도 최소 11n ( 99.999999999 % ) 은 되는 것인데, 이걸 99.999 % ( 5n ) 밖에 안 되는 순도라 하는 것은 도대체 뭔지 아주 해괴하기까지 하네요.

저 글쓴이가 제시하는 불산 시약이란 것이 어떤 것인지 궁금할 따름입니다.

참고로 제가 아래 글 적은 이유가 바로 위와 같은 글이 떠돌길래 쓴겁니다.

http://www.gasengi.com/main/board.php?bo_table=economy&wr_id=45304

스텔라케미파 영문 홈페이지 본문: https://www.stella-chemifa.co.jp/english/business/chemical/electronics.html

"Stella Chemifa has developed and secured its refining technology on its own and has succeeded in achieving high purity refining of over 12N(99.9999999999%). "

저거 이토렌트발 게시글로 알고있습니다.
http://www.etoland.co.kr/bbs/board.php?bo_table=hit&wr_id=1793820
윗님이 지적하신 바와 같이 계산도 틀린데다 팩트 없긴 마찬가지고

10피코 그램이면 500그램당 2*10^-12 퍼센트인데 그럼 99.999999999998 입니다.
저거 작성자가 쓴 계산기가 5자리 밑으로는 전부 절삭하나봅니다.

12나인 ?  측정도 안되는데 뭔소리를 하는지..    현재로 .999% 가 한계입니다.

12N 순도로 만든 것을 얼마든지 측정하는구만. 무슨 허튼 소리인지..

미세먼지측정기는 아시죠 ? 공기중에 먼지 입자가 얼마나 떠다니는지 측정하는 것요.

고체 내부에 불순물이 있는 경우는 측정하기가 좀 난감하겠지만, 액체나 기체 내부 고체 불순물 측정은 아주 간단하고 실시간으로 할 수 있기까지 합니다.

반도체/디스플레이 제작용으로 쓰는 블화수소 소모품 (에칭 가스, 세정제 등등) 은 모두 액체 아니면 기체입니다.

늅늅님이 링크 거신 것 가서 좀 보세요. 스탤라가 12N ( 99.9999999999 % ) 짜리 Hydrofluoric acid 을 만들고 있구만, 무슨 한계가 .999% 라는 말씀을 하시나요 ?

이게 고체 성분 불순물 함량만 말하는 것인지 아닌지는 좀 불확실하지만..

수소, 헬륨 포함해서 5N, 6N 이구요.
수소, 헬륨을 예외로 하고  측정하면 9N, 12N 스펙의 순도라고 주장하는거죠.
어디까지나 측정 기준이 수소/헬륨이 포함되느냐 포함되지 않느냐를 따지는겁니다.
중화학 분야에선 수소/헬륨을 포함하고, 반도체 식각 분야에서는 수소/헬륨은 식각에 영향을 주지 않으니 예외로 두는겁니다.
문제는 전세계 어느 기업이나 보편적인 정제 기술로 수소/헬륨 포함 5N, 6N 정제 가능합니다.
비싸죠. 그래서 안 써요. 쓸만한 분야도 몇 안되구요.

ArF 식각에서는 4N 정도면 충분하구요.
EUV에서는 5N 이상의 불산을 요구하는데, 아직 EUV 공정이 제대로 정착된게 아닙니다.
극복 못한 소재도 있고, 양산 대응에 문제도 있구요.

상업 생산은 삼성반도체에서 오직 1개의 라인만을 돌리고 있고.
그나마 EUV가 도입되는 TSMC는 3~4개의 핵심적인 마스크패턴에만 EUV가 제한적으로 적용될 뿐입니다.
삼성전자는 7~8개의 마스크패턴에 EUV가 도입되고, 이걸 3~4개로 줄인게 하프노드 공정인 6nm (인텔에서 요구한 공정) 입니다.

초고순도 불산이 많이 쓰이지 않는겁니다.
해당 캐파를 선점한게 일본 기업들이에요.
EUV 공정을 위한 불산 샘플 제공도 일본 기업들이 먼저 해 왔으니 공정 세팅이 모두 일본 기업에 맞춰져 있습니다.
다우케미컬이나 3M 같은 회사들이 생산을 못하는게 아닙니다.

국내기업들도 4N까지는 생산하고 있고, 필요에 따라서는 5N, 6N도 생산할 수 있겠지만.
보편적으로 사용되는 ArF가 아닌 극소수의 EUV를 위해서 생산할 기업들이 없다는거죠.
이 틈새 시장을 일본 기업들이 선점한거에요.

원래 EUV 장비 개발은 일본 기업들 연합과 ASML의 기싸움이였습니다.
주변 소재는 일본에서 주도적으로 개발해 왔으나 광학장치는 ASML의 승리로 끝났죠.
기존 반도체 소재 공급처들이 생산을 못해서가 아니라 일본 기업들이 EUV 소재 산업을 선점하고, 삼성/TSMC 같은 회사들의 공정 세팅에 일본기업 소재들이 레퍼런스로 들어가다보니 선점 효과에 실패한거지 기술력 문제로 제조 안하는게 아닙니다.

[잡담] 불화수소 순도입니다.아래와는 조금 다릅니다 멋진글~

[잡담] 불화수소 순도입니다.아래와는 조금 다릅니다 감사합니다.