반도체 제조장비 자(중)국산화에 대한 미국의 대책, 미=>쭝

China’s Progress in Semiconductor Manufacturing Equipment(SME)

https://cset.georgetown.edu/wp-content/uploads/CSET-Chinas-Progress-in-Semiconductor-Manufacturing-Equipment.pdf

언론에서 커다란 주목을 받지 않고, 덜그럭 거리는 소리는 크게 안 들리지만, 반도체 산업의 물 밑에선 엄청난 흔들림이 있다. 미국이 모든 수단과 방법을 이용하여 차이나의 반도체 생태계 형성을 막고 있다.

이에 대한 구체적인 실행방법이 실린 68쪽에 달하는 보고서가 공개되었다.

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요약 : 차이나는 반도체 제조 장비(SME)를 국산화하는 데 우선순위를 두었다. 그러나 포토 리소그래피, 계측 및 검사에서 심각한 약점을 가지고 있기 때문에 선진 중소기업을 내재(국산)화하는 것은 어려울 것이다. 한편, 서방 최고의 글로벌 중견기업은 광범위한 지적 재산권과 세계적 수준의 엔지니어 팀을 누리고 있어 신규 기업이 선행기업을 따라 잡기는 매우 어렵다.

그러나 차이나처럼 자원과 정치적 의지가 있는 나라에서 중소기업을 따라 잡는 것이 불가능하지만은 않다. 차이나가 이 격차를 좁힐 수 있는지 여부는 다음의 5가지 핵심에 대한 접근의 성공에 달려있다.

1. 장비 구성 요소. 칩 제조업체가 SME의 협력 없이는 칩을 만들 수 없다. 

2. 정부 보조금. 무작정 퍼주기로 투자 자금을 효율적으로 활용 할 수 있는 신생기업의 능력을 초과지원 할 가능성이 높다.

3. 구체적인 지식획득. 검사 및 리버스 엔지니어링, 지적 재산권 절도는 기업의 발전을 모방하는 데 도움이 된다.

4. 암묵적인 노하우 이전. 현재 약 1,100 명의 차이나인이 차이나 이외의 중소기업에서 일하고 있다. 이 노동자들은 낮은 비율로 차이나로 돌아오지만 돌아오는 소수의 사람들은 귀중한 엔지니어링 노하우를 가져오고 종종 최고의 일자리를 확보한다. 핵심 부분에 차이니스 엔지니어 배제.

5. 자국 중소기업과 칩 제조사(Fabs) 간의 협력. 반도체 제조업체가 요구하는 높은 수율과 처리량을 달성하려면 수년이 걸리며 상호간의 광범위한 테스트와 피드백이 필요하다. 신규 기업은 이러한 과정에서 협력업체를 찾고 성장을 가속화하기 위해 수익을 창출하는 데 어려움을 겪을 것이다.

서방의 반도체 생태계, 특히 부가가치사슬에 대한 차이나의 접근을 줄이려면 상당한 정책적 노력이 필요하지만 장기적으로 차이나의 칩 의존성을 유지하려면 그러한 노력이 필요하다. 이를 위해 위에서 확인 된 5가지 요소 중 하나 이상에 대한 차이나의 접근을 줄이는 것을 목표로 하는 정책을 권장한다.

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보고서에 의하면, 서방은 세가지 핵심 부품을 가지고 있다. 그것은 ;

ASML’s EUV photolithography machines use

- mirrors sourced from German optics firm Carl Zeiss,

- laser amplifiers from Trumpf, a German equipment maker, and

- light sources from Cymer, an American firm. 싸이머의 광원이 제일 중요함.

이 세가지가 없다면, 그 나라는 그냥 2000년대 초반의 KrF(?) ^^ 수준에 머물 수밖에 없을 것이다라는 것이 보고서의 결론이다. 

결론 : 미국이 정책적으로 서방의 반도체 부가가치 체인에 차이나의 참여를 배제하는 강력한 정책을 구상하고 있으며, 이를 실시하고 있다. 한국의 관련업체도 역시 유사한 방법의 대처를 하고 있다고 본다.