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작성일 : 19-08-06 02:57

[전기/전자] 삼성 "7나노AP 생산 차질 없다"…日 EUV 포토레지스트 수출규제 대응 총력전

글쓴이 : 스크레치

https://news.naver.com/main/read.nhn?mode=LSD&mid=sec&sid1=105&oid=030&aid=0002833932

삼성전자가 세계 최초 EUV 공정 활용한 7나노 AP를 차질없이 양산..

세계 최초 7나노 EUV 공정 활용한 '엑시노스 9825'

이번에 출시될 갤럭시노트10에 두뇌 역할을 할것으로 알려지고 있지요..

퀄컴 '스냅드래곤 855플러스'는 불화아르곤 공정 적용

삼성 '엑시노스 9825'는 세계 최초 EUV 7나노 공정 적용

<삼성전자 EUV 포토레지스트 대안>

1. 공정 조율로 재료 낭비를 최소화하면 장기간 쓸수 있음

2. 포토레지스트 도포를 위한 웨이퍼 회전 최소화하는 방법

3. 삼성전자가 EUV 포토레지스트 자체개발 방안 검토 (소재개발팀 인력 결집)

4. 미국 등 대안

EUV 포토레지스트 문제도 어느정도 삼성이 해결책을 찾아가는듯 합니다.

또 경기도 화성에 내년 상반기 세계 최대 EUV 전용라인이 갖춰질 예정이라

EUV를 대규모로 본격 활용한 공정이 시작되기까지는 아직 6개월~1년 가까이 시간이 남은만큼

차분하게 준비하면서

충분히 대안을 찾을수 있을거라 봅니다.

출처 : 해외 네티즌 반응 - 가생이닷컴https://www.gasengi.com

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		스크레치 19-08-06 02:57 https://news.naver.com/main/read.nhn?mode=LSD&mid=sec&sid1=105&oid=030&aid=0002833932 https://news.naver.com/main/read.nhn?mode=LSD&mid=sec&sid1=105&oid=030&aid=0002833932



		totos 19-08-06 10:52 3nm부터 포토레지스터와 웨이퍼를 새로운 타입으로 교체함. 삼성의 7nm, 6nm, 5nm, 4nm는 7LPP (EUV) 에서 파생된 공정. 수율을 위한 중/저밀도 공정이라 TSMC의 고밀도 공정 대비 마진값이 높음. 수율 마진이 높은 공정이라 리소그래피 과정에서 여러가지 변칙 룰 적용이 가능. TSMC는 모바일 AP에 최적화 된 공정이고, 삼성은 GPU/CPU 제조에 최적화 된 공정임. 3nm부터 포토레지스터와 웨이퍼를 새로운 타입으로 교체함. 삼성의 7nm, 6nm, 5nm, 4nm는 7LPP (EUV) 에서 파생된 공정. 수율을 위한 중/저밀도 공정이라 TSMC의 고밀도 공정 대비 마진값이 높음. 수율 마진이 높은 공정이라 리소그래피 과정에서 여러가지 변칙 룰 적용이 가능. TSMC는 모바일 AP에 최적화 된 공정이고, 삼성은 GPU/CPU 제조에 최적화 된 공정임.



		멀리뛰기 21-01-02 17:29 [전기/전자] 삼성 "7나노AP 생산 차질 없다"…日 EUV 포토레지스트 수출규제 대응 총력전 좋은글~ [전기/전자] 삼성 "7나노AP 생산 차질 없다"…日 EUV 포토레지스트 수출규제 대응 총력전 좋은글~



		멀리뛰기 21-01-12 07:55 [전기/전자] 삼성 "7나노AP 생산 차질 없다"…日 EUV 포토레지스트 수출규제 대응 총력전 좋은글~ [전기/전자] 삼성 "7나노AP 생산 차질 없다"…日 EUV 포토레지스트 수출규제 대응 총력전 좋은글~

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